保护膜的相关知识

　　定制设计的保护膜电路：我们设计和制造的，特定于应用程序的各种微型电子应用陶瓷及石英衬底保护膜电阻/导体电路。一些电阻层的化学计量比的保护膜是计算机控制的，以达到预期的TCR与片电阻值，这也是钝化层施加必要的。关于它的导电模式主要是这些通常是由若干层组成，选择，以满足复杂的要求的粘附，扩散阻挡层，接触电阻，焊接性，热管理等相关的导电性的一些系统是钛，金，铬/镍/金，铬/铜/金，钛/铂/金等。
　　多层沉积不破坏真空的情况下，为高可靠性。钻石衬底和碳化硅衬底的保护膜金属化，由于其优异的导热性，钻石和碳化硅衬底正在更频繁地使用的半导体和光电器件在性能优异的热管理。这也需要使用到专有工艺，我们现在可以这些基本上成长和坚固耐用的超薄保护膜的各种金属，使它们适合用于安装电子元器件。离子束辅助沉积保护膜是它的另外一种类别，使用的多功能考夫曼型离子束源，现在可以增长最高品质的保护膜具有许多独特的性质，对基材的粘结强度高。降低应力保护膜可以在很大程度上对光学层的折射率形成增加和传输作用。
　　保护膜改进的阶梯覆盖涂层部分，具有复杂的形状，然而它也是影响化学计量各种有益的方式。致密的钝化层沉积反应诸如氮化硅和一氧化硅的离子束预清洗过程：在这个过程中，我们可以通过采用，除去本地污染物和/或氧化物基板上，否则可能会抑制附着力和电接触，形成没有特殊效用的接触。当然如果您需要了解更多产品知识，可以登录我们的网站查看。